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聚焦离子束沉积物质有哪些种类
离子束沉积（ionbeamdeposition，IBD）是一种在单质或化合物衬底上沉积金属或半导体材料的先进技术。离子束沉积可以分为溅射沉积和磁控溅射沉积两种类型。这两种技术在沉积物质种类、薄膜性能和...
2024-03-27 03:16:25230 -
聚焦离子束沉积物质有哪些
离子束沉积（IonBeamMelting，IBM）技术是一种高能束流技术，通过离子束射线对固体样品进行加热，实现对样品的熔化或烧结。离子束沉积（IBP）是离子束熔化（IM）和离子束烧结（IS）的统称，...
2024-03-27 00:52:21233 -
离子束沉积的原理
纳瑞科技（北京）有限公司(IonBeamTechnologyCo.,Ltd.)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。离子束沉积（IonBeam...
2024-03-27 00:12:17348 -
FIB聚焦离子束装置 SMI2050
FIB聚焦离子束装置SMI2050:实现高效原子级金属沉积原子级金属沉积是制造高质量晶体管、微电子器件和传感器的关键工艺之一。话说回来,传统的化学气相沉积(CVD)和磁控溅射(MCP)等方法存在一些限...
2024-03-26 11:36:16322 -
芯片工艺制程有哪些纳米
纳瑞科技（北京）有限公司(IonBeamTechnologyCo.,Ltd.)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。芯片工艺制程是指制造芯片时...
2024-03-26 09:54:20253 -
离子束辅助沉积
fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材，以及应用开发和培训。离子束辅助沉积（IonBeamAssistedDeposition，IBAD）是一种在气相沉积（GrowthAtomicFil...
2024-03-26 08:30:24272 -
离子束溅射沉积原理
离子束溅射沉积（IonBeamSputtering，简称IBBS）是一种在单质或化合物衬底上制备薄膜的方法，广泛应用于半导体器件制造、太阳能电池、发光二极管（LED）和透明导电薄膜等领域。离子束溅射沉...
2024-03-26 05:20:20330 -
FinFET工艺cvd
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-26 04:46:20368 -
聚焦离子束沉积物质是什么意思
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-26 04:02:14236 -
聚焦离子束沉积物质有哪些特点
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-26 00:30:19282
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