离子注入设备原理图

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离子注入设备原理图是一种用来说明离子注入设备工作原理的图示。离子注入设备是一种用于将离子或原子注入到半导体晶体中的设备,这种设备在微电子、光电子和能源领域中有着广泛的应用。

离子注入设备通常由三个主要部分组成:离子源、离子注入通道和离子检测器。离子源是产生离子的设备,离子注入通道是将离子从一个地方输送到另一个地方的通道,离子检测器则用于检测注入的离子。

下面是离子注入设备的原理图:

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